オグラ アツシ
Ogura Atusi
小椋 厚志 所属 明治大学 理工学部 職種 専任教授 |
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言語種別 | 英語 |
発行・発表の年月 | 2002/05 |
標題 | Hf_1-X_Si_x_O_2_ deposition by metal organic chemical vapor deposition using the Hf(NEt_2_)_4_/SiH(NEt_2_)_3_/O_2_ gas system |
掲載誌名 | Elsevier B.V. Thin Solid Films |
巻・号・頁 | Vol.416,pp.pp.208-211 |
著者・共著者 | Y.Ohshita, A.Ogura, M.Ishikawa, A.Hoshikawa, A.Hoshino, S.Hiiro, T.Suzuki, H.Machida |
DOI | 10.1016/S0040-6090(02)00705-8 |