オグラ　アツシ   Ogura Atusi   小椋　厚志    所属   明治大学  理工学部    職種   専任教授
言語種別	英語
発行・発表の年月	2004/01
形態種別	学術雑誌
査読	査読あり
標題	Characterizing metal-oxide-semiconductor structures consisting of HfSiOx as gate dielectrics using monoenergetic positron beams
掲載誌名	Jpn. J. Appl. Phys. 43, 1254-1259 (2004).
巻・号・頁	43,pp.1254-1259
著者・共著者	A., Uedono, N., Hattori, A., Ogura, J., Kudo, S., Nishikawa, T., Ohdaira, R., Suzuki, T., Mikado