オグラ　アツシ   Ogura Atusi   小椋　厚志    所属   明治大学  理工学部    職種   専任教授
言語種別	日本語
発行・発表の年月	2012
標題	水素ラジカル処理を用いたCVD‐SiO2のパッシベーション特性の改善と効果
掲載誌名	日本電子材料技術協会秋期講演大会講演概要集
巻・号・頁	49th,7頁
著者・共著者	土屋佑樹, 池野成裕, 山口拓也, 永田晃基, 立花福久, 鈴木摂, 石橋啓司, 新船幸二, 吉田晴彦, 佐藤真一, 知京豊裕, 小椋厚志
PermalinkURL	http://jglobal.jst.go.jp/detail.php?from=API&JGLOBAL_ID=201302259238993324