オグラ　アツシ   Ogura Atusi   小椋　厚志    所属   明治大学  理工学部    職種   専任教授
言語種別	日本語
発行・発表の年月	2012/08/27
標題	低温CVD成膜されたSiO2における水素ラジカル処理の効果
掲載誌名	応用物理学会学術講演会講演予稿集(CD-ROM)
巻・号・頁	73rd,ROMBUNNO.12A-F6-5頁
著者・共著者	土屋佑樹, 池野成裕, 山口拓也, 鈴木摂, 石橋啓司, 長田貴弘, 新船幸二, 吉田晴彦, 佐藤真一, 知京豊裕, 小椋厚志
PermalinkURL	http://jglobal.jst.go.jp/detail.php?from=API&JGLOBAL_ID=201202282945745625