オグラ　アツシ   Ogura Atusi   小椋　厚志    所属   明治大学  理工学部    職種   専任教授
言語種別	日本語
発行・発表の年月	2014/03/03
標題	ポストアニール処理によるHfO2/SiOx/Si(100)構造のSiOxの膜厚制御
掲載誌名	応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)
巻・号・頁	61st,ROMBUNNO.20P-D6-8頁
著者・共著者	豊嶋祐樹, 澤本直美, 谷脇将太, 池野成裕, 堀田育志, 吉田晴彦, 新船幸二, 小椋厚志, 佐藤真一
PermalinkURL	http://jglobal.jst.go.jp/detail.php?from=API&JGLOBAL_ID=201402267277509570