(最終更新日:2017-05-20 16:03:33)
  カツマタ ヒロシ   KATSUMATA Hiroshi
  勝俣 裕
   所属   理工学部
   職種   専任准教授
■ 著書・論文
1. 論文  メカニカルミリング法と放電プラズマ焼結法によるβ-FeSi2の作製とその応用 (共著) 2016/06
2. 論文  Synthesis and crystal growth of Mg2Si by the liquid encapsulated vertical gradient freezing method (共著) 2015/07
3. 論文  Optical transition in nanocrystalline Si doped SiO2 thin films formed by co-sputtering (共著) 2014/02
4. 論文  Effects of Ga doping and nitridation on ZnO films prepared by RF Sputtering (共著) 2013/01
5. 論文  Optical band-gap of TiO2 nanopowders doped with Al2O3 (共著) 2013/01
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■ 学会発表
1. 2017/03/15 LSW理論に基づくSiO2薄膜中のナノ結晶Siの粒径予測(第64回応用物理学会春季学術講演会(15a-411-5))
2. 2016/09/15 Mg2Si薄膜の固相成長における Ag添加の影響と二段階熱処理の効果(第77回応用物理学会秋季学術講演会(15a-B3-9))
3. 2016/09/06 Bulk Single Crystal Growth of Mg2Si by the Liquid Encapsulated Vertical Gradient Freezing Method(Energy, Materials and Nanotechnology, the Collaborative Conference on Crystal Growth (EMN-3CG))
4. 2016/08/09 Formation of Eu,Si codoped AlN thin films on Si substrate by reactive co-sputtering for heterojunction visible light emitting diode(The 18th International Conference on Crystal Growth and Epitaxy (ICCGE18) (TuP-T09-8))
5. 2016/08/09 Si-based visible luminescent material grown on Si substrates by chemical reaction with Si powder(The 18th International Conference on Crystal Growth and Epitaxy (ICCGE18) (Tu1-G03-7))
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■ 学歴
1. 1988/04~1992/03 明治大学 工学部 電気工学科 卒業
2. 1992/04~1994/03 明治大学大学院 工学研究科 電気工学専攻 修士課程修了 修士(工学)
3. 1994/04~1997/03 明治大学大学院 理工学研究科 電気工学専攻 博士課程修了 博士(工学)
4. 1997/03/26
(学位取得)
明治大学 博士(工学)
■ 職歴
1. 1997/04~2000/03 京都大学 工学部 付属イオン工学実験施設 講師[研究機関研究員]
2. 2000/04~2010/03 株式会社東芝 生産技術センター プロセス研究センター
■ 学内役職・委員
1. 2017/04/01~2019/03/31 明治大学 学生相談員
■ 所属学会
1. 1992/07~ 応用物理学会
2. 2011/04 ∟ シリサイド系半導体と関連物質研究会 幹事
3. 2010/09~2014/12 日本希土類学会
4. 2011/01~ Materials Research Society
5. 2011/04~2013/12 電気化学会
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■ 研究課題・受託研究・科研費
1.   シリサイド系環境半導体材料の薄膜成長とその応用  (キーワード:シリサイド半導体,太陽電池,熱電素子,発光ダイオード)
2.   希土類添加半導体ナノクリスタル材料の開発  (キーワード:シリコン,エルビウム,ナノクリスタル)
■ ホームページ
   オプトバイオエレクトロニクス研究室
■ 受賞学術賞
1. 2015/11 Poster Award of Merit, International Thin Films Conference (TACT2015), National Cheng Kung University, Tainan, Taiwan
2. 2011/08 Best Poster Report Award, Asian School-Conference on Physics and Technology of Nanostructured Materials (ASCO-NANOMAT), Vladivostok, Russia
3. 2000/11 R.F.Bunshah Award for the Best Paper at 27th International Conference on Metallurgical Coatings and Thin Films, American Vacuum Society.
■ 現在の専門分野
薄膜・表面界面物性(Thin Film and Surface Interface Physical Properties), 応用物性・結晶工学(Applied Physical Properties/Crystal Engineering), 電子・電気材料工学(Electron/Electric Material Engineering), 電子デバイス・電子機器(Electronic Device/Electronic Equipment) 
■ 取得特許
1. 有機エレクトロルミネッセンス表示素子およびその製造方法(特開2003-347063)
2. 有機半導体装置およびその製造方法(特許4672319)
3. 酸化膜形成方法(特開2006-93445)
4. Method of manufacturing oxide film and method of manufacturing semiconductor device(US 2006/0068605 A1)
5. 電子デバイスの評価方法および電子デバイス(特開2007-73907)
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