|
ツツミ トシユキ
Tsutsumi Toshiyuki
堤 利幸 所属 明治大学 理工学部 職種 専任教授 |
|
| 言語種別 | 英語 |
| 発行・発表の年月 | 2003/12 |
| 形態種別 | 学術雑誌 |
| 標題 | "Systematic Electrical Characteristics of Ideal Rectangular Cross Section Si-Fin Channel Double-Gate MOSFETs Fabricated by a Wet Process" |
| 執筆形態 | 共著(筆頭者以外) |
| 掲載誌名 | IEEE Transactions on Nanotechnology,The IEEE Electron Devices Society |
| 巻・号・頁 | Vol.2(No.4),pp.pp198-204 |
| 著者・共著者 | Yongxun LIU, Kenichi ISHII, Toshiyuki TSUTSUMI, Meishoku MASAHARA, Toshihiro Sekigawa, Kunihiro Sakamoto, Hedenori TAKASHIMA, Hiromi Yamauchi, and Eiichi SUZUKI |