| ツツミ トシユキ
            Tsutsumi Toshiyuki 堤 利幸 所属 明治大学 理工学部 職種 専任教授 | |
| 言語種別 | 英語 | 
| 発行・発表の年月 | 2003/07 | 
| 形態種別 | 学術雑誌 | 
| 標題 | "Ideal Rectangular Cross-Section Si-Fin Channel Doble-Gate MOSFETs Fabricated Using Orientation-Dependent Wet Etching" | 
| 執筆形態 | 共著(筆頭者以外) | 
| 掲載誌名 | IEEE Electron Devices Lette,The IEEE Electron Devices Society | 
| 巻・号・頁 | Vol.24(No.7),pp.pp484-486 | 
| 著者・共著者 | Yongxun Liu, Kenichi Ishii, Toshiyuki Tsutsumi, Meishoku Masahara, and Eiichi Suzuki |