ツツミ　トシユキ   Tsutsumi Toshiyuki   堤　利幸    所属   明治大学  理工学部    職種   専任教授
言語種別	英語
発行・発表の年月	1999/04
形態種別	学術雑誌
標題	Fabrication of 40-150 nm Gate Length Ultrathin n-MOSFETs using Epitaxial Layer Transfer SOI Wafers
執筆形態	共著(筆頭者)
掲載誌名	The Japan Society of Applied Physics,Japanese Journal of Applied Physics
巻・号・頁	Vol.38 Part1 No.4B,pp.2492-2495
著者・共著者	◎Kenichi Ishii* , Eiichi Suzuki* , Sigo Kanamaru* , Tatsuro Maeda* , Toshiyuki Tsutsumi(助手) , Kiyoko Nagai* , Toshiro Sekkigawa* , Hiroshi Hiroshima*