ツツミ トシユキ
Tsutsumi Toshiyuki
堤 利幸 所属 明治大学 理工学部 職種 専任教授 |
|
言語種別 | 英語 |
発行・発表の年月 | 1999/01 |
形態種別 | 学術雑誌 |
標題 | Fabrication Technology of Ultrafine SiO2 masks and Si nanowires using oxidation of vertical sidewalls of a Poly-Si layer |
執筆形態 | 共著(筆頭者) |
掲載誌名 | Journal of Vacuum Science & Technology B |
巻・号・頁 | Vol.17, No.1,pp.77-81 |
著者・共著者 | ◎Toshiyuki Tsutsumi(助手) , Kazutaka Tomizawa , Kenichi Ishii , Seigo Kanemaru , Eiichi Suzuki |