ツツミ　トシユキ   Tsutsumi Toshiyuki   堤　利幸    所属   明治大学  理工学部    職種   専任教授
言語種別	英語
発行・発表の年月	1998/09
形態種別	学術雑誌
標題	Fabrication of 40-150nm Gate Length Ultrathin n-MOSFETs using ELTRAN SOIWafers(国際会議)
執筆形態	共著(筆頭者)
掲載誌名	Extended Abstracts of International Conference on Solid State Devices and Materials, Hiroshima
巻・号・頁	pp.320-321
著者・共著者	◎Eiichi Suzuki , Kenichi Ishii , Seigo Kanemaru , Tatsuro Maeda , Toshiyuki Tsutsumi(助手) , Toshiro Sekigawa , Hiroshi Hiroshima