ヨコガワ リョウ
YOKOGAWA RYO
横川 凌 所属 明治大学 理工学部 職種 助教 |
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言語種別 | 英語 |
発行・発表の年月 | 2018/05 |
形態種別 | 学術雑誌 |
査読 | 査読あり |
標題 | Evaluation of Anisotropic Biaxial Stress Induced Around Trench Gate of Si Power Transistor Using Water-Immersion Raman Spectroscopy |
執筆形態 | 共著(筆頭者以外) |
掲載誌名 | Journal of Electronic Materials |
掲載区分 | 国外 |
巻・号・頁 | 47,pp.5050-5055 |
著者・共著者 | Takahiro Suzuki, Ryo Yokogawa, Kohei Oasa, Tatsuya Nishiwaki, Takeshi Hamamoto, Atsushi Ogura |