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ヨコガワ リョウ
YOKOGAWA RYO
横川 凌 所属 明治大学 理工学部 職種 助教 |
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| 言語種別 | 英語 |
| 発行・発表の年月 | 2017/10 |
| 形態種別 | 学術雑誌 |
| 査読 | 査読あり |
| 標題 | Enhanced nickelidation rate in silicon nanowires with interfacial lattice disorder |
| 執筆形態 | 共著(筆頭者以外) |
| 掲載誌名 | Journal of Applied Physics |
| 掲載区分 | 国外 |
| 巻・号・頁 | 122(14),pp.144305-144305 |
| 著者・共著者 | Shuichiro Hashimoto, Ryo Yokogawa, Shunsuke Oba, Shuhei Asada, Taiyu Xu, Motohiro Tomita, Atsushi Ogura, Takashi Matsukawa, Meishoku Masahara, and Takanobu Watanabe |