カツマタ　ヒロシ   KATSUMATA Hiroshi   勝俣　裕    所属   明治大学  理工学部    職種   専任准教授
取得国	国外
知的財産権の種類	特許権
出願国	外国
公開番号	US 2006/0068605 A1
特許名	Method of manufacturing oxide film and method of manufacturing semiconductor device