オグラ アツシ
Ogura Atusi
小椋 厚志 所属 明治大学 理工学部 職種 専任教授 |
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発表年月日 | 2002/08 |
発表テーマ | Organometallic Hf and Si precursors for Hf_1-x_Si_x_O_2_ thin film formation characterization |
発表形式 | 口頭(一般) |
発表者・共同発表者 | 国際会議 Atomic Layer Deposition (ALD2002) Conference M.ishikawa, T.Kada, M.Ishikawa, Y.Ohshita |