オグラ アツシ
Ogura Atusi
小椋 厚志 所属 明治大学 理工学部 職種 専任教授 |
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発表年月日 | 2006/09 |
発表テーマ | Properties of chemical reaction during Ni and Ni-silicide deposition using Ni(PF_3_)_4_ and Si_3_H_8 |
発表形式 | 口頭(一般) |
発表者・共同発表者 | Advanced metallization Conference, Asian Session I. Muramoto, H. Machida, S. Imai, A. Ogura, Y.Ohshita |