オグラ　アツシ   Ogura Atusi   小椋　厚志    所属   明治大学  理工学部    職種   専任教授
発表年月日	2006/09
発表テーマ	Relative oxidation rates of various oriented silicon substrates in high-pressusre water vapor
発表形式	口頭（一般）
発表者・共同発表者	'International Workshop on sustenable enrgy and material 2006 (Tokyo) ◎N. Yamamoto, R. Imai, H. Suzuki, Y. Ohshita and A. Ogura'