オグラ　アツシ   Ogura Atusi   小椋　厚志    所属   明治大学  理工学部    職種   専任教授
発表年月日	2001/07
発表テーマ	Formation of Epitaxially Ordered SiO_2_ in Oxygen-implanted Silicon During Thermal Annealin
発表形式	口頭（一般）
発表者・共同発表者	国際会議　　International Conference on Crystal Growth T.Shimura, T.Hosoi, K.Fukuda, M.Umeno