オグラ アツシ
Ogura Atusi
小椋 厚志
所属
明治大学 理工学部
職種
専任教授
発表年月日
2001/06
発表テーマ
Ｈｆ(ＮＥｔ_2_)_4_を原料ガスとして用いたＨｆＯ_2_薄膜の堆積
発表形式
口頭（一般）
発表者・共同発表者
電子情報通信学会シリコン材料・デバイス研究会
大下、小椋、星野、鈴木、町田