(最終更新日:2018-11-15 19:15:25)
  カツマタ ヒロシ   KATSUMATA Hiroshi
  勝俣 裕
   所属   理工学部
   職種   専任准教授
■ 著書・論文
1. 著書  研究室紹介 明治大学理工学部電気電子生命学科オプトバイオエレクトロニクス研究室 (単著) 2018/01
2. 論文  メカニカルミリング法と放電プラズマ焼結法によるβ-FeSi2の作製とその応用 (共著) 2016/06
3. 論文  Synthesis and crystal growth of Mg2Si by the liquid encapsulated vertical gradient freezing method (共著) 2015/07
4. 論文  Optical transition in nanocrystalline Si doped SiO2 thin films formed by co-sputtering (共著) 2014/02
5. 論文  Effects of Ga doping and nitridation on ZnO films prepared by RF Sputtering (共著) 2013/01
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■ 学会発表
1. 2018/11/12 Enhancement and stabilization of blue photoluminescence from Eu and Si codoped AlN films formed by reactive co-sputtering(International Workshop on Nitride Semiconductors, 2018)
2. 2018/09/20 スパッタリング法によるEu,Si共添加AlN薄膜の形成における共添加材料の検討(第79回応用物理学会秋季学術講演会(20p-235-10))
3. 2018/09/19 共スパッタリング法により形成したMgSiSn薄膜の電気特性(第79回応用物理学会秋季学術講演会(19a-436-6))
4. 2018/07/22 薄膜の物性評価の基礎と最近のトピックス(第18回シリサイド系半導体夏の学校)
5. 2018/07/21 a-Si/β-FeSi2複合薄膜の形成と半導体全固体二次電池への応用(第18回シリサイド系半導体夏の学校)
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■ 学歴
1. 1988/04~1992/03 明治大学 工学部 電気工学科 卒業
2. 1992/04~1994/03 明治大学大学院 工学研究科 電気工学専攻 修士課程修了 修士(工学)
3. 1994/04~1997/03 明治大学大学院 理工学研究科 電気工学専攻 博士課程修了 博士(工学)
4. 1997/03/26
(学位取得)
明治大学 博士(工学)
■ 職歴
1. 1997/04~2000/03 京都大学 工学部 付属イオン工学実験施設 講師[研究機関研究員]
2. 2000/04~2010/03 株式会社東芝 生産技術センター プロセス研究センター
■ 学内役職・委員
1. 2017/04/01~2019/03/31 明治大学 学生相談員
■ 主要学科目
電気磁気学,電子デバイス
■ 研究課題・受託研究・科研費
1. 2018/04~2019/03  シリコン系半導体を用いた半導体固体電池の開発に関する研究 企業からの受託研究 
2. 2017/04~2018/03  シリサイド半導体を用いた半導体固体電池の開発に関する研究 企業からの受託研究 
3. 2016/10~2017/03  MgSi系熱電材料のドーピング技術の研究 国内共同研究 
4. 2016/04~2017/03  シリサイド薄膜の研究 指定寄付研究費 
5. 2015/09~2016/08  MgSi系熱電材料のドーピング技術の研究 企業からの受託研究 
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■ ホームページ
   オプトバイオエレクトロニクス研究室
■ 受賞学術賞
1. 2015/11 Poster Award of Merit, International Thin Films Conference (TACT2015), National Cheng Kung University, Tainan, Taiwan
2. 2011/08 Best Poster Report Award, Asian School-Conference on Physics and Technology of Nanostructured Materials (ASCO-NANOMAT), Vladivostok, Russia
3. 2000/11 R.F.Bunshah Award for the Best Paper at 27th International Conference on Metallurgical Coatings and Thin Films, American Vacuum Society.
■ 現在の専門分野
電子・電気材料工学(Electronic materials/Electric materials) (キーワード:シリサイド半導体,ナノ結晶,ワイドバンドギャップ半導体) 
■ 取得特許
1. 有機エレクトロルミネッセンス表示素子およびその製造方法(特開2003-347063)
2. 有機半導体装置およびその製造方法(特許4672319)
3. 酸化膜形成方法(特開2006-93445)
4. Method of manufacturing oxide film and method of manufacturing semiconductor device(US 2006/0068605 A1)
5. 電子デバイスの評価方法および電子デバイス(特開2007-73907)
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