1. |
2023/03/08 |
Nb:SrTiO3を用いたキャリヤ密度傾斜薄膜における熱応答および光応答の評価(2023年 日本セラミックス協会年会)
|
2. |
2021/11/26 |
エレクトロルミネッセンス素子の進展と課題(第385回蛍光体同学会講演会)
|
3. |
2021/03/23 |
ZnO:Al を用いたキャリヤ密度傾斜薄膜における熱応答および光応答の評価(2021年 日本セラミックス協会年会)
|
4. |
2020/02/14 |
P型半導体を用いた直接衝突励起型直流EL素子の試作(第379回蛍光体同学会講演会)
|
5. |
2019/10/29 |
Thermoelectric and photoelectric characteristics of graded films using Nb-doped SrTiO3(The Pacific Rim Conference of Ceramic Societies 13)
|
6. |
2019/09/20 |
亜酸化銅を用いた直流 EL 素子からの低電圧発光(第80回応用物理学会秋季学術講演会)
|
7. |
2019/09/20 |
陽極側に形成したCeO2が直流 EL の素子特性に及ぼす影響(第80回応用物理学会秋季学術講演会)
|
8. |
2019/03/09 |
局所配向誘引構造を組み込んだ面内電界駆動 液晶装荷シリコン細線 MZ 型光スイッチの作製(第66回応用物理学会春季学術講演会)
|
9. |
2019/02/27 |
電機がつくる農業(応用科学会 講演会)
|
10. |
2019/01/25 |
CeO2を用いた薄膜無機EL素子の発光特性(発光型非発光型ディスプレイ合同研究会)
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11. |
2018/09/12 |
Characterization of Amorphous Semiconductor Layer in DC-EL Devices(19th International Workshop on Inorganic and Organic Electroluminescence & 2018 International Conference on the Science & Technology of Emissive Display and Lighting (EL2018))
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12. |
2018/09/12 |
DC-EL devices with NPN structure(19th International Workshop on Inorganic and Organic Electroluminescence & 2018 International Conference on the Science & Technology of Emissive Display and Lighting (EL2018))
|
13. |
2018/09/12 |
Electroluminescence from impact excitation and carrier injection process in a same devices(19th International Workshop on Inorganic and Organic Electroluminescence & 2018 International Conference on the Science & Technology of Emissive Display and Lighting (EL2018))
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14. |
2018/09/12 |
Electroluminescent Devices Having the MgO Layer(19th International Workshop on Inorganic and Organic Electroluminescence & 2018 International Conference on the Science & Technology of Emissive Display and Lighting (EL2018))
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15. |
2018/09/05 |
高効率発光素子を目指して -励起機構に基づく材料選択と構造ー(日本セラミックス協会 第31回秋季シンポジウム)
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16. |
2018/03/20 |
アモルファスSi層を挿入した電界励起発光素子(第65回応用物理学会春季学術講演会)
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17. |
2018/03/20 |
局所配向誘引構造を組み込んだ垂直駆動液晶装荷シリコン細線MZI型光スイッチの試作(I)(第65回応用物理学会春季学術講演会)
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18. |
2018/03/20 |
局所配向誘引構造を組み込んだ垂直駆動液晶装荷シリコン細線MZI型光スイッチの試作(II)(第65回応用物理学会春季学術講演会)
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19. |
2018/03/20 |
液晶装荷シリコン細線光スイッチの時間応答特性の検討(2018年電子情報通信学会総合大会)
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20. |
2018/03/15 |
Nb:SrTiO3, LaMnO3 傾斜化合物薄膜の熱電特性(日本セラミックス協会 2018年 年会)
|
21. |
2017/09/06 |
亜酸化銅を用いた直流駆動無機ELの電気伝導性の検討2(第78回応用物理学会秋季学術講演会)
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22. |
2017/03/16 |
キャリヤの再結合発光を伴う直流駆動無機ELの検討(第64回応用物理学会春季学術講演会)
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23. |
2017/03/16 |
プローブ層を用いた直流無機EL素子の発光位置の検討(第64回応用物理学会春季学術講演会)
|
24. |
2017/03/15 |
Nb:SrTiO3, LaMnO3 傾斜接合膜におけるキャリヤの挙動(第64回応用物理学会春季学術講演会)
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25. |
2017/01/26 |
亜酸化銅を用いた直流駆動無機ELの検討(電子情報通信学会 電子ディスプレイ研究会 発光型/非発光型ディスプレイ合同研究会)
|
26. |
2017/01/26 |
塗布法により作製したZnS:Mn粉末EL素子の特性(電子情報通信学会 電子ディスプレイ研究会 発光型/非発光型ディスプレイ合同研究会)
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27. |
2016/03/22 |
塗布法によるZnS:Mn無機EL素子の作製(第63回応用物理学会学術講演会)
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28. |
2016/03/20 |
亜酸化銅を用いた直流駆動無機ELの電気伝導性の検討(第63回応用物理学会学術講演会)
|
29. |
2016/03/20 |
片側絶縁直流駆動無機ELにおける発光位置の検討(第63回応用物理学会学術講演会)
|
30. |
2015/12/10 |
Electroluminescence from DC Biased ZnS:Mn Phosphor Layers Having Cu2O Semiconductor(The 22th International Display Workshops (IDW'15))
|
31. |
2015/03/18 |
分散型EL素子における蛍光体層の黒化をともなう劣化(日本セラミックス協会 2015年 年会)
|
32. |
2015/03/13 |
TFEPDDとポリイミドを用いた周期構造の作製(第62回応用物理学会春季学術講演会)
|
33. |
2015/03/13 |
液晶を用いたシリコン細線マッハツェンダー光スイッチ(第62回応用物理学会春季学術講演会)
|
34. |
2015/03/12 |
Ca0.6Sr0.4TiO3:Prを用いた薄膜型および粉末型EL素子における低電圧発光現象2(第62回応用物理学会春季学術講演会)
|
35. |
2015/01/08 |
ペロブスカイト型酸化物蛍光体ナノ粒子を用いた粉末型㻱㻸素子の発光特性(第53回セラミックス基礎科学討論会)
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36. |
2014/09/20 |
Ca0.6Sr0.4TiO3:Prを用いた薄膜型および粉末型EL素子における低電圧発光現象(第75回応用物理学会秋季学術講演会)
|
37. |
2014/09/19 |
アニール処理によるシリコン立体曲り導波路の伝搬損失改善(第75回応用物理学会秋季学術講演会)
|
38. |
2014/03/19 |
IPS液晶によるシリコン細線方向性結合器光スイッチ(第61回応用物理学会春季学術講演会)
|
39. |
2014/03/19 |
PLD法により作製されたCa0.6Sr0.4TiO3:Prを発光層とするEL素子の電気的特性(第61回応用物理学会春季学術講演会)
|
40. |
2014/03/19 |
立体化シリコン細線導波路と光ファイバの光波結合(第61回応用物理学会春季学術講演会)
|
41. |
2014/03/17 |
簡易なプロセスにより酸化物蛍光体を発光層に用いたセラミックスEL素子の検討(日本セラミックス協会2014年年会)
|
42. |
2014/01/24 |
D-Aペア蛍光体薄膜を用いた電流注入型発光素子の検討(発光型非発光型ディスプレイ合同研究会)
|
43. |
2013/12/05 |
Electroluminescence from DC Biased ZnS:TbF3 Phosphor Layers Having Oxide Semiconductor(The 20th International Display Workshops (IDW'13))
|
44. |
2013/09/04 |
ペロブスカイト型酸化物蛍光体ナノ粒子を用いた粉末型EL素子(第26回日本セラミックス協会秋季シンポジウム)
|
45. |
2013/08/28 |
Vertically-Curved Silicon Waveguide Fabricated by Ion-Induced Bending Method for Vertical Light Coupling(The 10th International Conference on Group IV Photonics)
|
46. |
2013/07/30 |
ディスプレイ研究の現状と将来像(光電相互変換第125委員会 第221回研究会)
|
47. |
2013/03/29 |
市販200V級GaN-HEMTとSi-SJMOSFETのスイッチング損失分析(第60回応用物理学会春季学術講演会)
|
48. |
2013/03/29 |
酸化物半導体薄膜を用いた直流無機薄膜 EL 素子のアニール温度依存性(第60回応用物理学会春季学術講演会)
|
49. |
2013/03/29 |
量子効率測定による無機EL素子における発光特性の検討(第60回応用物理学会春季学術講演会)
|
50. |
2013/03/28 |
Epitaxial growth of ferromagnetic semiconductor Ga1-xMnxAs films on Ge(001) substrate(The 60th JSAP Spring Meeting, 2013)
|
51. |
2013/03/17 |
無機EL素子の内部量子効率に与えるホットエレクトロンの振舞い(2013年 日本セラミックス協会年会)
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52. |
2012/12/07 |
Thin film perovskite electroluminescence with ferroelectric BaTiO3 films as insulating layers(The 19th International Display Workshops (IDW2012))
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53. |
2012/11/19 |
市販の200V 級GaN-HEMTとSi-Superjunction MOSFETのスイッチング損失分析(SiC 及び関連ワイドギャップ半導体研究会 第21 回講演会)
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54. |
2012/11/08 |
Electroluminescence of BaSO4:Eu Thin-Film Phosphors(International Symposium on Rare Earths in 2012)
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55. |
2012/11/08 |
Luminescence Properties of Perovskite Oxide Thin-Film Phosphors(International Symposium on Rare Earth in 2012)
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56. |
2012/09/14 |
酸化物蛍光体微粒子を用いたセラミックス EL 素子(第73回応用物理学会学術講演会)
|
57. |
2012/03/19 |
キュリー温度シフトによる無機EL用チタン酸バリウム高誘電率厚膜の作製(日本セラミックス協会 2012年年会)
|
58. |
2012/03/19 |
局在型発光中心を用いたEL素子用微粒子蛍光体(日本セラミックス協会 2012年年会)
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59. |
2012/03/17 |
カーボンナノチューブ含有ポリイミド非線形光導波路とBCB導波路の異種接続ハイブリッド化作製技術の開発(第59回応用物理学関係連合講演会)
|
60. |
2012/03/17 |
等価回路モデルを用いたGaN-HEMTのスイッチング特性比較(第59回応用物理学関係連合講演会)
|
61. |
2012/03/16 |
Pr0.002(Ca0.6Sr0.4)0.997TiO3ペロブスカイト蛍光体薄膜の非線形導電現象(第59回応用物理学関係連合講演会)
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62. |
2011/12/19 |
Nonlinear Electrical Current Observed for Thin Films based on a Light-Emitting Perovskite-Type Oxide Pr0.002(Ca0.6Sr0.4)0.997TiO3 Directly Sandwiched by Electrodes(The 21st MRS-Japan ACademic Symposium)
|
63. |
2011/09/19 |
Nonlinear Electrical Properties of Thin Films ofa Light-Emitting Perovskite-Type Oxide Pr0.002(Ca0.6Sr0.4)0.997TiO3(International Union of Materials Research Societies (IUMRS) International Conference Asia)
|
64. |
2011/09/07 |
チタン酸バリウム厚膜誘電体を用いた分散型無機EL素子の検討(日本セラミックス協会 第24回秋季シンポジウム)
|
65. |
2011/09/07 |
CaSrTiO3:Pr単層膜EL素子の発光特性(日本セラミックス協会 第24回秋季シンポジウム)
|
66. |
2011/03 |
GaN 及びSiC ショットキバリアダイオードの理論解析(第58回応用物理学関係連合講演会)
|
67. |
2011/03 |
溝流し込み法によるシングルモードカーボンナノチューブ含有非線形光導波路の作製(第58回応用物理学関係連合講演会)
|
68. |
2011/02/10 |
ZnS:Mn粉末蛍光体を用いた分散型EL素子(光電相互変換第125委員会・EL分科会第38回研究会、蛍光体同学会第336回講演会)
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69. |
2010/09/30 |
High luminance inorganic EL sheets basd on "peel-off" process(15th International workshop on inorganic and organic electroluminescence)
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70. |
2010/09/15 |
SrTiO3: Pr, Al エピタキシャル薄膜 EL 素子の作製(第71回応用物理学会学術講演会)
|
71. |
2010/08/18 |
セラミックシートを用いた高輝度EL素子(光電相互変換 第125委員会 第209回研究会)
|
72. |
2010/03/17 |
2源パルス電子ビーム蒸着法を用いたBaAL2F5:Eu薄膜EL素子作製(第57回応用物理学関係連合講演会)
|
73. |
2010/01/28 |
スパッタリング法によるSi添加AlN:Eu薄膜EL素子の作製(電子情報通信学会 電子ディスプレイ研究会)
|
74. |
2010/01/28 |
直流反応性スパッタリング法を用いたBaAl2S4:EuEL素子の作製(電子情報通信学会 電子ディスプレイ研究会)
|
75. |
2010/01/19 |
Continual Challenge in The Development of Inorganic Phosphor based EL Devices(International Workshop on Field Emitter and Semiconductor Materials and Devices)
|
76. |
2010/01/12 |
BaTiO3誘電体シート上の薄膜EL素子(第48回セラミックス基礎科学討論会)
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77. |
2009/12/10 |
Low-Electric-Field-Driving Electroluminescence in ((Ca0.6Sr0.4)0.997Pr0.002)Ti3 and SrTiO3 perovskite Films(The 16th International Display Workshops (IDW' 09))
|
78. |
2009/11/10 |
物理計測のための面発光素子(第5回学際領域における分子イメージングフォーラム)
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79. |
2009/11/05 |
Continual Challenge in The Development of Electroluminescent Devices(International Symposium for Phosphor Materials 2009 in Niigata (The Phosphor Safari))
|
80. |
2009/10/09 |
Improvement of the Phosphor Performance for BaAl2S4:Eu Blue-emitting Thin-films with Fluoride Compounds(The 11th Asian Symposium on Information Display (ASID’09))
|
81. |
2009/09/10 |
BaTiO3を絶縁層に用いたペロブスカイト型酸化物(Ca0.6Sr0.4)TiO3:Pr薄膜EL素子(第70回応用物理学会学術講演会)
|
82. |
2009/09/10 |
レーザアブレーション法により作製したβ-FeSi2薄膜の光学的評価(第70回応用物理学会学術講演会)
|
83. |
2009/09/10 |
厚膜誘電体を用いたBaAl2S4:Eu青色EL素子の検討(第70回応用物理学会学術講演会)
|
84. |
2009/09/10 |
直流反応性スパッタリングによるBaAl2S4:Eu薄膜の作成(第70回応用物理学会学術講演会)
|
85. |
2009/09/10 |
EL素子用厚膜誘電体シートの作製(第70回応用物理学会学術講演会)
|
86. |
2009/06 |
ポップ・ロック音楽聴取時のイヤホン使用者の周囲音知覚(電子情報通信学会研究会)
|
87. |
2009/03/31 |
ペロブスカイト型酸化物(Ca0.6Sr0.4)TiO3:Pr薄膜を用いたEL素子の作製(第56回応用物理学関係連合講演会)
|
88. |
2009/01/29 |
厚膜誘電体を用いたBaAl2S4:Eu青色EL素子の検討(電子情報通信学会 電子ディスプレイ研究会 発光型/非発光型ディスプレイ合同研究会)
|
89. |
2008/12/18 |
硫化亜鉛蛍光体を用いた無機EL(光電相互変換第125委員会EL分科会 第34回研究会)
|
90. |
2008/12/04 |
High-Luminance from Localized Emission Center Phosphor in Powder-Type EL Device(The 15th International Display Workshops)
|
91. |
2008/11/14 |
ELディスプレイ・EL照明の可能性(日本電子材料技術協会 第45回秋季講演大会)
|
92. |
2008/10/29 |
WO3-Bi2O3混合薄膜の作製と評価(第49回真空に関する連合講演会)
|
93. |
2008/10/29 |
白金パラジウム酸化物薄膜の電気特性と光学特性の評価(第49回真空に関する連合講演会)
|
94. |
2008/09/18 |
Ti系ペロブスカイト型酸化物蛍光体エピタキシャル薄膜の作製と透明性(日本セラミックス協会 第21回秋季シンポジウム)
|
95. |
2008/09/18 |
無機EL素子材料と発光デバイスの特性改善(日本セラミックス協会 第21回秋季シンポジウム)
|
96. |
2008/09/11 |
New Trial of Inorganic EL Devices(14th International Workshop on Inorganic and Organic Electrolumienescence & 2008 International Conference on the Science and Technology of Emissive Displays and Lightings)
|
97. |
2008/09/09 |
Fluorine Effects on BaAl2S4:Eu Blue-Emitting Phosphors(14th International Workshop on Inorganic and Organic Electrolumienescence & 2008 International Conference on the Science and Technology of Emissive Displays and Lightings)
|
98. |
2008/09/04 |
Pr添加Ti系ペロブスカイト型酸化物エピタキシャル薄膜の赤色蛍光特性(II)(第69回応用物理学会学術講演会)
|
99. |
2008/09/02 |
BaAl2S4:Eu成膜時のZnS添加効果(第69回応用物理学会学術講演会)
|
100. |
2008/09/02 |
フッ素添加による青色蛍光体BaAl2S4:Euの特性変化(第69回応用物理学会学術講演会)
|
101. |
2008/09/02 |
有機/無機ハイブリッド構造を有するZnS:Cu,Cl直流キャリヤ注入EL素子(第69回応用物理学会学術講演会)
|
102. |
2008/07/19 |
BaAl2S4:Eu 青色蛍光体膜におけるフッ素化合物の添加効果(光電相互変換第125委員会「本委員会201回・EL分科会第33回」)
|
103. |
2008/07/19 |
無機ELの新しい試み(光電相互変換第125委員会「本委員会201回・EL分科会第33回」)
|
104. |
2008/04/11 |
無機ELディスプレイの最新動向と展望(有機デバイス研究会 第72回研究会)
|
105. |
2008/03 |
ZnS D-Aペア蛍光体にIII-V族化合物を添加した無機EL素子の作製(4)
|
106. |
2008/03 |
スパッタリング法による Si 添加 AlN:Eu薄膜の作製
|
107. |
2008/03 |
ペロブスカイトSrTiO3:Pr,Alエピタキシャル薄膜の作製と蛍光特性
|
108. |
2008/03 |
レーザアブレーション法により作製したβ-FeSi2薄膜の表面構造および結晶性評価
|
109. |
2008/03 |
反応性同時スパッタリングにより作製した白金パラジウム混合酸化物薄膜の光学特性
|
110. |
2008/01 |
BaAl2S4:Eu薄膜におけるBa2+とEu2+イオンの局所構造解析
|
111. |
2008/01 |
B添加によるBaAl2S4:Eu青色蛍光体の特性改善
|
112. |
2008/01 |
GdF3を添加した青色蛍光体BaAl2S4:Euの特性変化
|
113. |
2007/12 |
Local Structure around Ba2+ and Eu2+ Ions in Blue Luminescent baAl2S4:Eu Thin-Films
|
114. |
2007/11 |
Nドープ酸化タングステン薄膜の作製と評価
|
115. |
2007/11 |
無機発光材料の現状と課題
|
116. |
2007/11 |
複数の材料を添加したZnS系EL用蛍光体
|
117. |
2007/09 |
BaAl2S4:Eu薄膜作製におけるAlF3添加効果
|
118. |
2007/09 |
Feアブレーション膜を用いたβ-FeSi2/Siヘテロダイオードの特性評価
|
119. |
2007/09 |
RFスパッタリング法によるBi2O3-TiO2薄膜の基板温度依存性
|
120. |
2007/09 |
ZnS D-Aペア蛍光体にⅢ-Ⅴ族化合物を添加した無機EL素子の作製 (3)
|
121. |
2007/09 |
反応性スパッタリング法により作製したAu添加V2O5薄膜の光学的特性
|
122. |
2007/09 |
反応性スパッタリング法により作製したMo酸化物薄膜の光学的特性
|
123. |
2007/09 |
反応性スパッタリング法による白金パラジウム混合酸化物薄膜の作製
|
124. |
2007/09 |
無機EL用蛍光薄膜BaAl2S4:EuにおけるBa,EuサイトのXAFSによる検討
|
125. |
2007/09 |
無機EL素子用高輝度ZnS蛍光体の検討
|
126. |
2007/09 |
青色蛍光体BaAl2S4:EuにおけるGdF3添加効果
|
127. |
2007/09 |
(Sr, Ca, Ba)TiO3: Pr, Alの組成比における蛍光特性の変化
|
128. |
2007/08 |
無機ELデバイスの新展開・ディスプレイと照明応用 〜蛍光体技術・構造・作製技術〜
|
129. |
2007/07 |
High Luminance Phosphors for Electroluminescent Devices
|
130. |
2007/05 |
Flux Effects on BaAl2S3:Eu,F Blue-Phosphors
|
131. |
2007/03 |
Ternary Compound Phosphors for Electroluminescent Displays
|
132. |
2007/03 |
ZnS D-Aペア蛍光体にIII-V族化合物を添加した無機EL素子の作製
|
133. |
2007/03 |
プラズマ欠陥導入したCNTによる室温動作単一電子トランジスタ
|
134. |
2007/02 |
分散型・薄膜型ELの現状
|
135. |
2007/01 |
Ⅲ-Ⅴ族半導体を添加した硫化亜鉛の発光特性
|
136. |
2007/01 |
電子ビーム蒸着BaAl2S4:Eu薄膜の光学的特性
|
137. |
2007/01 |
FPD(フラットパネルディスプレイ)最新技術と材料開発 無機ELディスプレイ
|
138. |
2006/12 |
無機ELの動向と今後の展望
|
139. |
2006/09 |
Effects of V2O5 interlayer on ZnS:Mn-ACTFEL Devices
|
140. |
2006/09 |
Phosphor Studies for Color EL Devices
|
141. |
2006/09 |
無機ELの動向と今後の展開
|
142. |
2006/08 |
CuAlS2:Mn赤色EL用蛍光体薄膜
|
143. |
2006/08 |
ZnS D-Aペア蛍光体にIII-V族化合物を添加した無機EL素子の作製
|
144. |
2006/07 |
無機ELの開発および材料・素子のトレンドと製造技術
|
145. |
2006/05 |
強誘電体多結晶(Sr1-xCax)TiO3を用いたキャパシタンス温度センサの開発
|
146. |
2006/05 |
無機ELの新展開 〜動向と今後の展望
|
147. |
2006/04 |
無機EL素子の作製方法と最新動向
|
148. |
2006/03 |
レーザアブレーション法により作製したβ-FeSi2薄膜中の原子の熱拡散
|
149. |
2006/03 |
反応性スパッタリング法によるV添加Ag酸化物薄膜の光学的特性
|
150. |
2006/03 |
反応性スパッタリング法による白金酸化物薄膜の光学的特性
|
151. |
2006/03 |
多元同時反応性スパッタリング法による不純物添加W酸化物薄膜のフォトクロミック特性
|
152. |
2006/03 |
無機ELの今後の開発の動向
|
153. |
2006/03 |
無機ELの原理・作製と開発動向
|
154. |
2006/03 |
無機ELの最新動向
|
155. |
2006/02 |
無機ELの新展開〜動向と今後の展望
|
156. |
2006/02 |
無機EL素子の現状と開発動向
|
157. |
2006/01 |
Chalcopyrite型蛍光体薄膜の発光特性
|
158. |
2005/12 |
無機EL用蛍光体の開発現状・課題と発光制御
|
159. |
2005/11 |
無機ELのフルカラー化・蛍光体開発の取り組み
|
160. |
2005/10 |
無機ELの魅力と展望
|
161. |
2005/09 |
Bi2O3-TiO2スパッタリング薄膜における熱処理効果
|
162. |
2005/09 |
エレクトロルミネッセンス実用化に向けての三元硫化物蛍光体
|
163. |
2005/09 |
レーザアブレーション法により作製したβ-FeSi2薄膜の長時間アニーリング効果
|
164. |
2005/09 |
反応性スパッタリング法により作製した窒素添加W酸化物薄膜の光学的特性と電子状態解析(2)
|
165. |
2005/09 |
反応性スパッタリング法によるPd酸化物薄膜の光学的特性(2)
|
166. |
2005/09 |
反応性スパッタリング法によるTa添加Y酸化物薄膜の光学的特性
|
167. |
2005/09 |
反応性スパッタリング法による酸化銀薄膜の光学的特性
|
168. |
2005/09 |
紫外発光ZnF2:Gd薄膜EL素子におけるバッファ層の効果
|
169. |
2005/09 |
青色発光BaAl2S4:Eu蛍光体のX線解析
|
170. |
2005/08 |
無機ELデバイスの開発動向
|
171. |
2005/06 |
無機ELにおける応用製品の開発動向と今後の展望
|
172. |
2005/03 |
Bi2O3-TiO2 スパッタリング薄膜の光学的、電気的特性
|
173. |
2005/03 |
スパッタリング法によるBaAl2S4:Eu薄膜の作製(1)
|
174. |
2005/03 |
反応性スパッタリング法により作製した窒素添加W酸化物薄膜の光学的特性と電子状態解析
|
175. |
2005/03 |
反応性スパッタリング法によるイットリウム酸化物薄膜の電気的、光学的特性
|
176. |
2005/01 |
レーザアニールを用いた薄膜EL素子の作製
|
177. |
2005/01 |
多元系硫化物蛍光体を用いた白色発光薄膜EL素子の作製
|
178. |
2005/01 |
高周波スパッタリング法によるBaAl2S4:Eu薄膜の作製
|
179. |
2004/12 |
無機EL素子における熱処理技術の新展開
|
180. |
2004/09 |
Annealing Study for Color EL devices
|
181. |
2004/09 |
ELデバイスの技術課題と展望
|
182. |
2004/09 |
不純物添加Cr酸化物薄膜の光学的特性及び電子状態解析
|
183. |
2004/09 |
反応性スパッタリング法による不純物添加Pd酸化物薄膜の光学的特性
|
184. |
2004/08 |
薄膜・真空技術が支えるフラットパネルディスプレイ事情
|
185. |
2004/07 |
SID'04 報告会 -Emissive Display<Inorganic EL, Phosphors>ー
|
186. |
2004/05 |
Color Phosphors for Inorganic Electroluminescent Devices
|
187. |
2004/04 |
最新動向をふまえた<無機・有機>ELディスプレイの特性比較と将来予測 〜特性評価・生産性・寿命予測・各種用途への可能性等〜
|
188. |
2004/03 |
RFマグネトロンスパッタリング法によるZnGa2S4:Mn薄膜EL素子の作製
|
189. |
2003/12 |
Electrical Properties of β-FeSi2/Si Hetero-Diode Improved by Pulsed Laser Annealing
|
190. |
2003/10 |
Photoluminescence from β-FeSi2 Thin Film Grown by a Pulsed Laser Deposition Method.
|
191. |
2003/10 |
無機ELディスプレイ
|
192. |
2003/09 |
エキシマレーザを用いたプラスチックフィルム上への無機薄膜EL素子の作製
|
193. |
2003/09 |
レーザアニールを用いたゾルゲル法による BaTiO 薄膜の作製
|
194. |
2003/09 |
赤色発光 ZnGa2S4:Mn 薄膜EL素子の作製
|
195. |
2003/09 |
赤色発光無機EL素子(CCMも含めて)
|
196. |
2003/08 |
Zr-Mn酸化物薄膜の光学的特性
|
197. |
2003/08 |
不純物添加W酸化物薄膜の光学的特性及び電子状態解析
|
198. |
2003/08 |
反応性スパッタリング法によるPd酸化物薄膜の光学的特性
|
199. |
2003/08 |
反応性スパッタリング法によるZr添加Cr酸化物薄膜の光学的・電気的特性
|
200. |
2003/04 |
無機エレクトロルミネッセンスとその研究動向
|
201. |
2003/04 |
ELの最新動向
|
202. |
2003/03 |
CaAl2S4:Euを用いた高純度緑色EL素子
|
203. |
2003/03 |
フルドライプロセスによる準粒子トラッピング超伝導トンネル接合X線検出器の作製
|
204. |
2003/03 |
レーザアニールによるβ-FeSi2薄膜の結晶性改善および電気的特性
|
205. |
2003/03 |
低温堆積緩衝層を用いたレーザアブレーション法によるβ-FeSi2の成長
|
206. |
2003/03 |
反応性スパッタリング法によるV添加W酸化物薄膜の光学的特性
|
207. |
2003/03 |
無機ELディスプレイの開発動向・無機EL材料の開発動向
|
208. |
2003/03 |
無機エレクトロルミネッセンスとその研究動向
|
209. |
2003/03 |
無機ELの最新動向
|
210. |
2003/03 |
超伝導トンネルX線検出素子の信号出力空間分布のX線エネルギー依存
|
211. |
2003/01 |
A-(Mg,Zn)-S (A=Ca,Sr,Ba) EL用蛍光体の特性
|
212. |
2003/01 |
EL用 (Zn,Mg)Al2S4:Mn 蛍光体薄膜の作製
|
213. |
2003/01 |
Eu2+添加CaAl2S4を用いた高純度緑色EL素子の作製
|
214. |
2003/01 |
次世代平面 ディスプレイ の展望 -無機EL-
|
215. |
2003/01 |
無機ELディスプレイの技術開発動向
|
216. |
2002/12 |
11th EL-workshop と蛍光体国際会議 ー無機EL関連=
|
217. |
2002/12 |
Composition of β-FeSi2 thin-films grown by a pulsed laser deposition method
|
218. |
2002/12 |
New II-Y2-S4 phosphors for electroluminescent devices
|
219. |
2002/12 |
無機EL ディスプレイの開発動向
|
220. |
2002/10 |
有機EL vs 無機ELディスプレイ
|
221. |
2002/09 |
Mn2+ and Eu2+ doped barium zinc sulfide phosphors
|
222. |
2002/09 |
Phosphor Technology for Electroluminescent Display
|
223. |
2002/09 |
Possibiity of RGB emission by Eu2+ ion doped IIa-IIIb2S4 phosphors for full color inorganic electroluminescent displays
|
224. |
2002/09 |
スパッタリング法によるNi-Ti酸化物薄膜の光学的特性
|
225. |
2002/09 |
リフトオフによる超伝導トンネル接合X線検出器の作製
|
226. |
2002/09 |
レーザアブレーション法により作製したβ-FeSi2の高温長時間熱処理による結晶性の改善
|
227. |
2002/09 |
不純物添加Mo酸化物薄膜の電子状態解析
|
228. |
2002/09 |
反応性スパッタリング法によるW-Nb酸化物薄膜の光学的特性
|
229. |
2002/09 |
青色発光BaAl2S4:Eu EL素子の水定量分析
|
230. |
2002/07 |
BaZnS 赤色発光EL素子
|
231. |
2002/07 |
フルカラーELディスプレイ用 Eu2+ イオン添加IIa-IIIb2-S4 族蛍光体
|
232. |
2002/06 |
無機EL蛍光体の現状と動向
|
233. |
2002/05 |
無機ELディスプレイの開発動向と他方式ディスプレイとの比較・検討
|
234. |
2002/04 |
無機ELディスプレイの動作原理と材料・素子の開発、評価
|
235. |
2002/03 |
CaIn2S4:Eu蛍光体におけるZn添加の効果
|
236. |
2002/03 |
DV-Xα 分子軌道法によるMo酸化物薄膜の電子状態
|
237. |
2002/03 |
スパッタリング法によるZrO2薄膜の屈折率分散特性
|
238. |
2002/03 |
レーザアブレーション法により作製したβ-FeSi2の表面偏折
|
239. |
2002/03 |
レーザアブレーション法による BaAl2S4:Eu 薄膜の作製
|
240. |
2002/03 |
無機ELディスプレイの開発動向
|
241. |
2002/03 |
緑色発光CaAl2S4:Eu薄膜EL素子の作製
|
242. |
2002/03 |
青色発光BaAl2S4:Eu薄膜の昇音脱離ガス分光法による評価
|
243. |
2002/01 |
レーザアブレーション法によるBaAl2S4:Eu薄膜の作製
|
244. |
2002/01 |
レーザアブレーション法によるBaMgAl10O17:Eu薄膜の作製
|
245. |
2002/01 |
青色発光BaAl2S4:Eu薄膜の熱処理過程評価
|
246. |
2001/12 |
多元系硫化物EL材料
|
247. |
2001/12 |
無機ELディスプレイの開発動向と今後の課題
|
248. |
2001/11 |
BaAl2S4:Eu Phosphors for Full-Color EL Display
|
249. |
2001/11 |
Preparation of Efficient Blue Emitting BaAl2S4:Eu Thin Films without High Temperature Annealing
|
250. |
2001/11 |
真空蒸着法による高分子1次元フォトニック結晶の作製
|
251. |
2001/09 |
A1N薄膜EL素子の電気的特性
|
252. |
2001/09 |
PLD法によるBaMgA110017:Eu薄膜の作製
|
253. |
2001/09 |
レーザアブレーション法により作製したβ-FeSi2/Siヘテロダイオード
|
254. |
2001/09 |
反応性スパッタリング法によるNi酸化物薄膜の電気的・光学的特性
|
255. |
2001/09 |
反応性スパッタリング法によるV添加Mo酸化物薄膜の光学的特性
|
256. |
2001/09 |
反応性スパッタリング法によるZr添加V酸化物薄膜の光学的・電気的特性
|
257. |
2001/09 |
昇温脱離ガス分光法を用いたBaAl2S4:Eu薄膜の熱処理過程分析
|
258. |
2001/09 |
熱処理を用いない青色発光BaAl2S4:Eu薄膜の作製
|
259. |
2001/03 |
BaAl2S4: Eu結晶の発光特性
|
260. |
2001/03 |
スパッタリング法により作製したTi添加Hf酸化物薄膜の光学的特性(Ⅲ)
|
261. |
2001/03 |
レーザアブレーション法により作製したβ-FeSi2/Siヘテロダイオードの電気的特性
|
262. |
2001/03 |
反応性スパッタリング法によるHf添加V酸化物薄膜の光学的特性(Ⅱ)
|
263. |
2001/03 |
反応性スパッタリング法によるMo酸化物薄膜の光学的特性
|
264. |
2001/03 |
反応性スパッタリング法によるZrO2, Nb2O5薄膜のTi添加効果
|
265. |
2001/01 |
BaAl2S4:Eu EL素子の電気的特性
|
266. |
2001/01 |
超薄膜層を用いたアンドープ有機白色EL素子の作製と評価
|
267. |
2001/01 |
電子ビーム蒸着法によるBaAl2S4:Eu EL素子
|
268. |
2000/12 |
Blue-Emitting BaAl2S4: Eu2+ Thin-Film EL Devices
|
269. |
2000/12 |
Composition and Luminescene Properties of Blue-Emitting BaAl2S4:Eu Thin-Films
|
270. |
2000/12 |
Crystallization of Thin-Film Phosphors by New Annealing Technique
|
271. |
2000/11 |
BaAl2S4:Eu Thin-Film EL Devices Prepared by Pulsed Laser Ablation Technique
|
272. |
2000/11 |
β-FeSi2 thin-films grown by a pulsed laser Deposition method
|
273. |
2000/09 |
β-FeSi2薄膜におけるバンドギャップエネルギーの組成比依存
|
274. |
2000/09 |
スパッタリング法により作製したTi添加Hf酸化物薄膜の光学的特性(Ⅱ)
|
275. |
2000/09 |
パルスレーザアブレーション法によるβ-FeSi2薄膜の形成機構
|
276. |
2000/09 |
レーザアブレーション法を用いたBaAl2S4薄膜EL素子の作製
|
277. |
2000/09 |
反応性スパッタリング法によるHf添加V酸化物薄膜の光学的特性
|
278. |
2000/09 |
反応性スパッタリング法によるZrO2薄膜のTi添加効果
|
279. |
2000/09 |
新しい高輝度青色発光薄膜EL素子(Ⅲ)
|
280. |
2000/09 |
複合酸化物薄膜の理論計算
|
281. |
2000/09 |
電子ビーム蒸着法によるBaAl2S: Eu 蛍光体薄膜
|
282. |
2000/08 |
β-FeSi2 thin-films grown by a pulsed laser ablation method
|
283. |
2000/05 |
青色発光BaAl2S4: Eu2+EL薄膜の組成および光学特性
|
284. |
2000/03 |
2源パルス電子ビーム蒸着法により作製したBaAl2S4:Eu薄膜のX線電子分光法による評価
|
285. |
2000/03 |
2源パルス電子ビーム蒸着法により作製したBaAl2S4:Eu薄膜の光学特性
|
286. |
2000/03 |
Laser Ablation法によるβ -FeSi2薄膜の作製
|
287. |
2000/03 |
PrxSr1 -xTiO3薄膜EL素子
|
288. |
2000/03 |
スパッタリング法により作製したTi添加Hf酸化物の光学的特性
|
289. |
2000/03 |
不純物添加バッファ層によるエレクトロルミネッセンスへの影響II
|
290. |
2000/03 |
反応性スパッタリング法によるNb2O6薄膜のTi添加効果
|
291. |
2000/03 |
新しい高輝度青色発光薄膜EL素子(2)
|
292. |
2000/03 |
絶縁層にSrTiO3を用いたAlN薄膜EL素子
|
293. |
2000/02 |
第5回蛍光体国際会議(STPD)報告
|
294. |
2000/01 |
2価Euイオンを添加したBaAl2S4青色発光薄膜EL素子
|
295. |
2000/01 |
薄膜EL素子におけるバッファ層の効果
|
296. |
1999/12 |
Blue Emitting BaAl2S4:Eu TFEL Devices Prepared by Two Targets Pulse Electron Beam Evaporation
|
297. |
1999/12 |
青色発光BaAl2S4:Eu2+薄膜EL
|
298. |
1999/11 |
BaAl2S4:Eu 螢光体薄膜からのエレクトロルミネッセンス
|
299. |
1999/11 |
CaIII2S4:Ce Electroluminescent Devices Prepared by Pulse Deposition Technique
|
300. |
1999/09 |
RFマグネトロンスパッタリング法によるPrxSr1 -xTiO3薄膜EL素子
|
301. |
1999/09 |
SrF2薄膜EL素子
|
302. |
1999/09 |
不純部添加バッファ層によるエレクトロルミネッセンスへの影響
|
303. |
1999/09 |
反応性スパッタリング法によるTa2O5:Ti薄膜の光学的特性
|
304. |
1999/09 |
希土類を添加したAlN薄膜EL素子
|
305. |
1999/09 |
新しい高輝度青色発光薄膜EL素子
|
306. |
1999/01 |
2源パルス電子ビーム蒸着法によるCaAl2S4:Ce薄膜EL素子
|
307. |
1999/01 |
2源パルス電子ビーム蒸着法による高効率CaGa2S4:Ce薄膜EL素子
|
308. |
1998/09 |
CaF2:Eu薄膜EL素子
|
309. |
1998/09 |
PrxSr1-xTiO3 薄膜EL素子
|
310. |
1998/09 |
Two-Point EB蒸着法によるCaAl2xGa2(1-x)S4:Ce薄膜EL素子
|
311. |
1998/03 |
Heガス添加Hf1+xTi1-xO4スパッタリング薄膜の光学的特性(Ⅱ)
|
312. |
1998/03 |
Ta2O5:Tiスパッタリング薄膜の光学的特性(Ⅱ)
|
313. |
1998/03 |
Two-Point EB蒸着法によるCaAl2S4:Ce薄膜EL素子
|
314. |
1998/03 |
希土類イオン添加Al1-xGaxN薄膜のエレクトロルミネッセンス
|
315. |
1997/11 |
CaGa2S4:Ce Electroluminescent Devices Prepared by The Two Target Electron-Beam Evaporation
|
316. |
1997/10 |
Heガス添加Hf1+xTi1-xO4スパッタリング薄膜の光学的特性
|
317. |
1997/10 |
Nb2O5:Tiスパッタリング薄膜の光学的特性
|
318. |
1997/10 |
Two-Point蒸着によるCaGa2S4:Ce薄膜EL素子
|
319. |
1997/10 |
Zn1-xMgxS薄膜EL素子へのHe-Cd Laser照射
|
320. |
1997/10 |
希土類添加A1N薄膜のエレクトロルミネッセンス
|
321. |
1997/10 |
希土類添加ITO薄膜のエレクトロルミネッセンス
|
322. |
1997/03 |
Hf1+xTi1-xO4スパッタリング薄膜の成膜におけるHeガス添加効果
|
323. |
1997/03 |
Ta2O5:Tiスパッタリング薄膜の光学的特性
|
324. |
1997/03 |
Zn1-xMgxF2薄膜EL素子
|
325. |
1996/09 |
RFスパッタリング法によるHf1+xTi1-xO4薄膜の光学的特性
|
326. |
1996/09 |
スパッタITO薄膜の成膜に及ぼすHeガス添加効果
|
327. |
1996/09 |
希土類イオン添加ZnS薄膜の赤外発光
|
328. |
1996/08 |
Electroluminescent Spectra for Tb3+ Doped Zn1-xCdxS Thin-Films
|
329. |
1996/03 |
RF多元同時スパッタリング法によるZr1+xTi1-xO4薄膜の作製
|
330. |
1996/03 |
Zn1-xCdxS:TbOF薄膜EL素子におけるTb3+イオンの緩和過程
|
331. |
1996/03 |
高周波マグネトロンスパッタリングによるZnO-In2O3薄膜の作製
|
332. |
1995/11 |
Several Trial for New Phosphors of Electroluminescent Devices
|
333. |
1995/08 |
Zn1-xMgxS:Eu薄膜EL素子
|
334. |
1995/03 |
CdF2薄膜EL素子の温度依存性(Ⅱ)
|
335. |
1995/03 |
IIb-III2-Ⅵ4族化合物母体のEL素子への可能性(II)
|
336. |
1995/03 |
SrCa1-y-xBaxF2:Eu単結晶のフォトルミネッセンス
|
337. |
1995/03 |
希土類酸硫化物を母体に用いた薄膜EL素子
|
338. |
1994/10 |
Electroluminiscent Devices of Electron-Beam-Evaporated II-III2-VI4 Hosts
|
339. |
1994/09 |
IIb-IIIb2-VI4母体のEL素子への可能性
|
340. |
1994/03 |
BaF2:Eu単結晶の励起・発光スペクトルの濃度依存
|
341. |
1994/03 |
Zn(1-x)CdxS:Tb EL素子におけるTb3+イオンの5D3→5D4緩和
|
342. |
1994/01 |
Tm3+イオンを添加した種々のEL素子
|
343. |
1993/12 |
CaGa2S4:Ce青色発光薄膜EL素子
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344. |
1993/09 |
CaF2:Eu, CaGa2S4:Ce 青色発光薄膜EL素子
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345. |
1993/09 |
CdF2薄膜EL素子の温度依存性
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346. |
1993/09 |
ZnS(1-x)Sex:Tm3+薄膜EL素子の発光スペクトル
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347. |
1993/09 |
青色発光La2O2S:Tm薄膜EL素子
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348. |
1993/08 |
Electroluminescence spectra for rare-Doped Zn1-xCdxS thin films
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349. |
1993/08 |
Electroluminescence spectra for rare-Doped ZnS1-xSex thin films
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350. |
1993/05 |
Rare Earth Doped Thin Film Electroluminescent Devices Using the Fluoride Emitting Layer
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351. |
1993/01 |
母体にフッ化物を用いた薄膜EL素子
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352. |
1992/12 |
種々の化合物にTm3+イオンを添加した薄膜EL素子
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353. |
1992/09 |
CdF2を母体に用いた薄膜EL素子
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354. |
1992/09 |
ZnS:Tm3+薄膜EL素子の時間分解発光スペクトル
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355. |
1992/09 |
薄膜EL素子における母体の禁制帯幅依存
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356. |
1992/05 |
Band-Gap Energy Dependence of Host Materials for Electroluminescent Spectra
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357. |
1992/01 |
Tmイオン添加薄膜のELスペクトルにおける母体のバンド幅依存
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358. |
1991/11 |
希土類イオン添加ZnF2薄膜EL素子
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359. |
1991/10 |
ZnS:Er,YbFx薄膜EL素子における発光スペクトルの励起パルス幅依存
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360. |
1991/10 |
ZnS:TbFx薄膜EL素子の紫外光照射効果(II)
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361. |
1991/10 |
希土類添加ZnF2薄膜EL素子
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362. |
1991/10 |
種々の母体材料にTm3+イオンを添加した青色発光薄膜EL素子
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363. |
1991/10 |
青色発光CaF2:Eu薄膜EL素子
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364. |
1991/09 |
ZnS薄膜電界発光素子における紫外光照射効果
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365. |
1991/03 |
ZnS:TbFx薄膜EL素子の紫外光照射効果
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366. |
1991/03 |
ZnS:Tm3+薄膜のエレクトロルミネッセンス
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367. |
1990/09 |
Y2O2S:Eu薄膜のエレクトロルミネッセンス
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368. |
1990/09 |
ZnS:Mn, ZnS:Tb 薄膜における発光の過渡的振舞い
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369. |
1990/06 |
Transient Behavior of Photoluminescence and Electroluminescence in ZnS Thin Film Doped with Tb3+ Ion
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370. |
1990/03 |
SrS:Ce薄膜EL素子の時間分解発光スペクトル
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371. |
1990/03 |
ZnS:TbFx薄膜のフォトルミネッセンス
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372. |
1989/10 |
Transient Characteristics of Emission in ZnS:Mn Thin Film Electroluminescent Devices
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373. |
1989/09 |
ZnS:TbFx薄膜EL素子における発光の過渡的振舞い
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374. |
1989/04 |
発光層の熱処理温度が異なるZnS:TbFx薄膜EL素子における発光過渡特性
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375. |
1988/10 |
Li+1イオンを共付活したZnS:EuFx薄膜の赤色発光EL
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376. |
1988/10 |
Time Resolved Emission Spectra in ZnS thin-film Electroluminescent Devices
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377. |
1988/10 |
ZnS:TbFx薄膜EL素子の時間分解発光スペクトルにおける発光層の熱処理温度依存
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378. |
1988/03 |
ZnS:TbF3薄膜EL素子の発光過渡特性(III)
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379. |
1987/10 |
ZnS:TbF3薄膜EL素子の発光過渡特性(Ⅱ)
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